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产品分类
产品简介
系列 Series | 杂质 Impurity | 入口 Inlet（ppm） | 出口 Outlet（ppb） |
HON-N-S/W/VVV | O2 | ＜3 | ＜1 |
H2 | ＜1 | ＜1 | |
CO | ＜1 | ＜1 | |
CO2 | ＜1 | ＜1 | |
THC | -- | -- | |
H2O | ＜3 | ＜1 | |
PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
Pressure Drop | ＜1bar | ||
Flow | 10～20000Nm3/h | ||
工艺介绍：
物理吸附脱除CO2、H2O 、H2，化学吸附脱除O2、CO杂质。
吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生，反复使用。
多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
光纤行业
化工行业
高纯气体分析
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